工件描述:此玻璃為半導體製程用基板。依據客戶描述,於玻璃基板上coating或貼上 Polyimide(PI) tape,此PI膜上沉積有不同材質的金屬於其上,因此只要能有效去除PI,理論上可以將玻璃完全洗淨。
-
清洗前,外觀。客戶送來的樣品已經破片。
下方的PI膜(或tape)有部分沒有金屬(銅/鈦)層。
-
將玻璃基板置於70℃,微塵清洗劑PTC13中,浸泡1分鐘。
發現玻璃基板上的release layer已經溶解。
-
在70℃,微塵清洗劑PTC13中,浸泡5分鐘後。release layer已經完全清除。但是被PI tape遮蔽的部分,因為藥劑無法直接接觸到,還沒有清除。PI tape也未脫落。
-
在70℃,微塵清洗劑PTC13中,持續浸泡60分鐘後。發現未被金屬(銅/鈦)層遮蔽的PI tape已經膨潤、脫落。
-
但是再持續浸泡5小時後。發現被金屬(銅/鈦)層遮蔽的PI tape依然黏貼於玻璃基板上。
發現金屬(銅/鈦)層足以完全隔絕PTC13藥劑侵入PI tape。因此建議先撕掉金屬層,或以硫酸等酸液腐蝕掉銅/鈦金屬後,再浸泡PTC13,以清除release layer和PI tape,會更有效率。
-
另取一片破碎的玻璃基板。以銅蝕刻劑(90℃,1分鐘。或室溫,10~30分鐘)將表面的銅箔蝕刻掉。取出,以清水沖洗乾淨。
-
在70℃,微塵清洗劑PTC13中,浸泡10分鐘後。發現被剩餘金屬(鈦)層遮蔽的PI tape已經膨潤、開始脫落。
-
在70℃,微塵清洗劑PTC13中,持續浸泡1小時後。發現金屬層已經去除。而原本被金屬(鈦)層遮蔽的PI tape還沒有完全脫落。
-
在70℃,微塵清洗劑PTC13中,持續浸泡4小時後。發現PI tape已經去除。
取出,以純水潤洗乾淨後,放置於無塵室中陰乾。
-
發現經過銅蝕刻劑清除銅箔,再經PTC13加熱浸泡4小時後,可以清除玻璃基板上大部分的PI殘留。但是原本貼有PI tape的位置,在強光燈照射下,還是看的到痕跡。(其餘的白點是破碎玻璃上的刮傷,particle已經全部去除。)
-
測試其他藥劑:
使用硬化油墨清除劑ACHM04-L、合成除膠劑SynGC04、可剝膠去除劑AHLR03-GU,不論加熱、浸泡48小時,都無法去除release layer和PI tape。