模具使用一段時間後，表面殘留大量的epoxy與離型劑，由於長時間在高溫下固化，非常難清除。

以微塵清潔劑PTC-13， 60℃，超音波(40KHz, 50W/L)，浸泡清洗10分鐘。
發現殘留物有稍微軟化，部分殘留物已經脫落。

以微塵清潔劑PTC-13， 60℃，超音波(40KHz, 50W/L)，浸泡清洗20分鐘。
發現殘留物有稍微軟化，大部分殘留物已經脫落。

以微塵清潔劑PTC-13， 60℃，超音波(40KHz, 50W/L)，浸泡清洗20分鐘。再以尼龍短毛刷刷除。發現大部分殘留物都已經清除乾淨。

以微塵清潔劑PTC-13， 60℃，超音波(40KHz, 50W/L)，浸泡清洗30分鐘。再以尼龍短毛刷刷除。發現模具上的殘留物已經完全清除乾淨。

振盪器wafer SU8光阻劑去除以前，SU8光阻劑經過120℃預烤12分鐘，再置於170+-10℃加熱盤上烘烤60分鐘。

將此wafer置於80+-10℃，PTC13微塵清洗劑中，浸泡120分鐘。

取出，發現硬化SU8已經膨潤，可以以塑膠吸管輕易刮除。

取出，發現硬化SU8已經膨潤，可以以塑膠吸管輕易刮除。

結論與建議製程：

5.1微塵清洗劑PTC13也能清除硬化SU8光阻劑。
5.2微塵清洗劑PTC13是強鹼性的硬化樹酯剝除劑，若wafer上有鋁/鎂/鋅/ITO結構，則不建議使用。